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ロジックとシリル化

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とても便利だけど、ほとんど毎日来てくれる方がいてそれは嬉しいのだけど、
なにかコメントを残して欲しいと常々思う。
せっかくだからね。ついでポチッともしてくれてるかなと思いきや、それはまず無理だろうな。
なぜなら美容師だからw


さて今日は、

ロジックとシリル化のお話・・。


ロジックには、天然シリカのケイ素成分の
バンブサアルンジセナセア葉エキスが入っています。


そしてシリル化とは?


アルコール
修飾のシリル化剤として用いたのはアメリカのE. J. Coreyです。

1972年にTBSClを塩基としてイミダゾール存在下DMF溶媒中アルコールと反応させると収率よくシリル化体が
得られることを発見した。さらにテトラブチルアンモニウムフロリド
(TBAF)により除去可能であることも示す。
現在ではもっとも頻繁に用いられる保護基の1つです。

 

保護では、常として置換反応は5配位中間体を経由して進行する。
脱離基
(最も電気陰性な置換基)がアピカル位を占めるよう擬回転を起こしてから脱離が起こるもの。


123

-OH-OSiR3になる。単純にはR=CH3ということになるわけ。

また酵素を使うビスシリル化(触媒的シリル化)もある。

 


シリル化とは、加水分解したポリペプチドに3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを付加するもの。
つまりケイ素(Si)の骨格を付与する。そして熱処理によりこのシランによるシラノール基同士が脱水縮合して
高分子化、皮膜形成して艶感が出ます。つまり熱を加えると分子量が大きくなるということ。

345  


ダメージ毛は18MEA、CMCやタンパク質が失われ親水部位が表面にスルホン酸基とカルボン酸基が露出。
ここにSiを親水部位にいかに吸着させていくかといことですが、化学修飾をさせたロジックを効率よく反応させて
いき加熱。すると隣り合うシラノール基中の水酸基(OH)同士は加熱により脱水縮合し結合鎖を形成します。

さらにシロキサンを付与しよりきれいに高分子膜形成をさせることです。





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時間13時~16時
場所ナプラスタジオ大宮
講習費3000円
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